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集積デバイスグループへ！
研究室紹介
先端の電子デバイスの加工においては、原子や分子レベルで材料を構造制御することが重要となり、また、電子顕微鏡などを用いたデバイス観察や材料分析においてもこの高い精度での評価が求められています。そのような先端デバイスの加工や分析は、電子線や極端紫外線などの量子ビームを用いて実施されるため、量子ビーム照射下での材料の原子・分子挙動についての知見が必要となります。ナノスケールの加工や分析を支援するためのシミュレーション手法を独自に開発し、加工条件の最適化や分析結果の正しい解釈を目指した研究を展開しています。
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