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2020年2月6日
大学院生 村瀬幹生君が 2019年度（前期）工学域・工学研究科学生顕彰 を受賞
The 10th U3 material design forum （2019/3/29～30）においてThe Takeshi Yokota Award for the Best Inovative Presentationを受賞
●Development of epitaxial buffer layer on Si for the growth of piezoelectric films
M.Murase,K.Izumi,T.Yoshimura and N.Fujimura