37_集束イオンビーム（FIB）ナノ加工顕微鏡装置

集束イオンビーム（FIB）ナノ加工顕微鏡装置

メーカー名/型番

   日本電子 / JIB-4000

管理部局

   工学研究科

設置場所

　中百舌鳥キャンパス B7棟 E106室 【小林 中】

お問い合わせ

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仕様 特徴

  1. 早く、綺麗な加工
    大電流イオンビームにより目的の試料をより早く、綺麗に加工することが可能
  2. 加工ダメージの低減
    低加速電圧の加工により加工ダメージの低減が可能
  3. 安全性
    ソフトウェアでの各種操作はオペレ－タ別にログイン/ログアウトで管理が可能
    省エネモ－ドにより、加工終了後のGaイオン源の消費低減を実現
  4. 多彩なGIS
    最大2基のGISを装備可能。目的に応じたガスの使用が可能
  5. 省スペース
    省スペース設計の鏡筒架台と操作架台で構成

　イオン源 　Ga液体金属イオン源
　保証分解能 　5nm（加速電圧：30kV）
　最大ビーム電流 　60nA（加速電圧：30kV）
　特徴加速電圧 　1～30kV
　試料移動方式 　5軸モータステージ（標準）

学内 利用料金設定

    • 本人測定：料金は別途お問い合わせください。

学外 利用料金設定

    • 本人測定：31,000円 / 時間　※別途 技術指導料（3,000円/時間）がかかります。
    • 学術指導：実施及び費用は双方で協議の上、決定します。
    • 共同 受託研究：実施及び費用は双方で協議の上、決定します。