お知らせ

2024年1月12日

  • イベント

半導体超加工・集積化技術研究所「第４回半導体デバイスプロセス技術基礎講座2023」の開催について

以下のとおり、研究推進機構 協創研究センター 半導体超加工・集積化技術研究所による第４回半導体デバイスプロセス技術基礎講座2023が開催されます。


タイトル：

半導体超加工・集積化技術研究所 第４回半導体デバイスプロセス技術基礎講座2023
【ナノインプリント技術の基礎と今後の技術動向】

主催：

大阪公立大学 協創研究センター 半導体超加工・集積化技術研究所

協賛：

エレクトロニクス実装学会、応用物理学会シリコンテクノロジー分科会、CVD研究会、
化学工学会エレクトロニクス部会、化学工学会反応工学部会CVD反応分科会

後援：

近畿経済産業局

開催日：

2024年2月22日（木）16:00 ～ 18:50

開催場所：

⼤阪公⽴⼤学 I-siteなんば 2階 C2&C3／A1&A2（名刺交換会・技術交流会）
https://www.omu.ac.jp/isite/access/　

講師：

大阪公立大学 協創研究センター 半導体超加工・集積化技術研究所
平井 義彦 氏

定員：

100名（先着申込順）

参加費：

無料
申込締切：

2024年2月16日（金）
※以下のフォームより事前登録をお願いいたします。
https://docs.google.com/forms/d/e/1FAIpQLSc0Ee3GnmpyuXDhwHL9Whm7o9tw2p3k5APKnnR5oGuA69-D9g/viewform?vc=0&

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お問い合わせ先：
半導体超加工・集積化技術研究所
E-mail: semicon.tech.omu[at]gmail.com
［at］の部分を＠と差し替えてください。