活動情報

■日時　７月20日（土）13時00分～15時00分

■会場　大阪公立大学　中百舌鳥キャンパス C10棟

■内容　小さな絵を描こう～微細加工のすすめ～①

■概要　クリーンルームに入室し、シリコン基板のオゾンによるクリーニングを行った。クリーニング後の基板にはフォトレジスト（感光性の化学薬剤）をスピンコーターを用いて塗布した。フォトレジストは薄くかつ均一に塗布する必要がある。これを実現するため、フォトレジストを滴下したシリコン基板をスピンコーターにより高速で回転させ、遠心力で薄く延ばした。塗布後は余分な溶媒を蒸発させるため、フォトレジストを塗布した基板を97℃で3分間加熱した。